5nm芯片无需光刻机！中国科技公司已申请制造专利

【手机中国新闻】9月15日，手机中国注意到，天眼查App显示，上海创消新技术发展有限公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。摘要显示，该发明涉及芯片设计及制造，方案是：按5nm蚀刻线宽设计芯片版图，设计蚀刻掩模版后，用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面，用等离子体进行干法蚀刻，蚀刻结束后移去蚀刻掩模版，清洁晶圆，进行后续常规的芯片制造步骤。这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。【足记网】#秦海璐#

天眼查显示，上海创消新技术发展有12142554限公司成立于725325302019年3月，法定代表人为刘明革，注册资本50万人民币，经营范围包括电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的6340569技术开发等91378565，由刘明革和75115955刘佳慧共同持股。

未来几年，我92270597们期待上海创消新技术发展有2709795限公司能够在64111200芯片制造领域取得更多的65663521突破性成果，并将这项新技术推向21595326商业化阶段。对于9706442整个半导体行业来说，这种创新技术的27717223出现无疑带来了68709063新的34364634希望和动力，推动行业不断向91463394前发展，迈向87120303更先进的制造工艺和更广阔的应用领域。尽管目前这项技术还处于实验室阶段，但10057998是28401673其潜在42721499的60241370影响力不容忽视。